东方晶源微电子科技（北京）有限公司（下称“东方晶源”）成立于2014年2月，总部位于北京，在上海及深圳设有研发中心。东方晶源是由俞宗强博士带领海外华人科学家、工程师设立的高科技公司。

东方晶源承担了三项国家“02重大专项”任务，分别为“计算光刻软件与测试系统的研制”、“自由光瞳照明技术在光刻机中的应用研究”以及“14nm以下电子束硅片图形缺陷检测设备研发与产业化”。其中前两项均与国产浸没式光刻机研发有关，是国产浸没式光刻机所需的核心技术。

东方晶源主要业务为服务芯片设计与制造的EDA软件产品、光刻机制程优化系列产品的研发以及纳米级检测装备和关联软硬件产品良率综合优化解决方案的研发与生产。公司的核心业务和产品均为国内唯一，填补国内空白。其中：光刻机优化和计算光刻软件（OPC）是连接芯片设计和制造的核心软件，也是光刻机工作的必备软件。东方晶源研发生产的纳米级电子束图形检测装备（EBI和CD-SEM）也是芯片制造过程中良率检测和控制的必备设备，也是国内目前唯一可以实现28纳米前道检测的装备。公司前述三项产品均已在国内主要客户产线验证并获得多个订单，打破了国际巨头在该等领域的多个垄断。公司目前共申请专利142项，获得授权46项，其中包括日本、美国专利19项。